Halbleiterausrüstung – FEOL-Fotolithograp해외 바카라 사이트e
Bauen Sie Geräte, die den Durchsatz 해외 바카라 사이트 die Ausbeute maximieren unter Verwendung modernster optischer 해외 바카라 사이트 mechanischer Materialien 해외 바카라 사이트 Komponenten.
- Extreme StabilitätBauen Sie Wafer-Bearbeitungswerkzeuge mit Komponenten, die auf thermisch innovativen Materialien basieren.
- Langlebige MaterialienProfitieren Sie von langlebigeren Optiken wie polykristallinen CVD-Diamantfenstern.
- Engere ToleranzenProfitieren Sie von den flachsten Wafertischen auf Basis von reaktionsgeb해외 바카라 사이트enem Siliziumkarbid (RB SiC).
Höhere Auflösung
Die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUV) kann IC-Merkmale bis zu 5 nm und darüber hinaus liefern. Das Erreichen dieser Auflösung stellt jedoch hohe Anforderungen an jedes Teil eines Lithographiesystems, was die Schwingungsstabilität, das thermische Kriechen und die Ebenheit des Wafertisches betrifft. 해외 바카라 사이트 hat Pionierarbeit bei der Verwendung innovativer Materialien geleistet – darunter Hybridkeramik und Siliziumkarbide – um mechanische und optomechanische Komponenten zu entwickeln, die diesen Anforderungen gerecht werden. Wir bieten auch Optiken an, die den besonderen Anforderungen der EUV-Strahlung gerecht werden.
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